電導率σi和電子導電的電導率σe之比σi/σe≥0.01。

具有至少一層其至少部分所述導電性由離子導電性聚合物的組合物賦予的導電層的導電輥包括整個導電輥都由離子導電性聚合物賦予導電性的導電性橡膠組合物構成的導電輥以及由不同組成的多層構成的導電輥，而由不同組成的多層構成的導電輥中的至少一層由至少部分導電性由離子導電性聚合物的組合物賦予的導電性橡膠組合物構成，其他層則由離子導電性聚合物賦予導電性的導電層以外的橡膠等構成。根據本發明的第四方面，所述絕緣橡膠的含量為橡膠成分總量的約30質量％至約40質量％。

在使用電子照相方法的打印技術中，已經漸進實現高速打印操作、高質量圖像形成、彩色像形成、以及成像裝置小型化，并且變得很普遍。色粉一直是這些改進的關鍵。為滿足上述需要，必須形成精細分配的色粉顆粒，使得色粉顆粒的直徑均一，并且使得色粉顆粒呈球形。電子廢料與黃金等貴金屬成品之間的差價是比較固定的，而金銀做為貴金屬，不論在任何時候總是增值的，因此銷售市場不存在問題。至于形成精細分配的色粉顆粒的技術，近已經開發出直徑不超過10nm的色粉和不超過5pm的色粉。至于使色粉呈球形的技術，已經開發出球形度99%以上的色粉。

超純金屬，指的化學雜質和物理雜質 (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學雜質的含量為標準，常以雜質在金屬中總含 量的百萬分之幾表示 。超純金屬是相對高純度的金屬，一般指金屬純度達到純度9以上的金屬，物理雜質的概念才是有意義的。

材料的純度對其性能，特別是微電子學、光電子學性能影響很大，現代高技術產業要求制備出超純金屬以利于制作器件。

各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。但只當金屬純度達到很高的標準時（如純度9以上的金屬），物理雜質的概念才是有意義的，因此目前工業生產的金屬仍是以化學雜質的含量作為標準，即以金屬中雜質總含量為百萬分之幾表示。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線。

在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。