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曝光:經光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板(即PCB)上。
蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
不同的物質通過對不同波長紫外光的吸收,分子會發生能級躍遷,從基態躍遷至激發態,改變物質化學性能。曝光顯影工藝就是指利用物質這一特點,圖形顯影
經過曝光過的蓋板進入顯影設備,對需要去除的油墨進行化學反應,將不需要留下的地方進行剝離,然后表面清洗和干燥
顯影就是在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉顯影。正顯影時,顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。