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曝光:經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板(即PCB)上。
蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。
不同的物質(zhì)通過對不同波長紫外光的吸收,分子會發(fā)生能級躍遷,從基態(tài)躍遷至激發(fā)態(tài),改變物質(zhì)化學性能。曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點,圖形顯影
經(jīng)過曝光過的蓋板進入顯影設備,對需要去除的油墨進行化學反應,將不需要留下的地方進行剝離,然后表面清洗和干燥
顯影就是在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時,顯影色粉所帶電荷的極性,與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。