3分鐘前 東臺(tái)鋁材6061曝光顯影加工廠家信賴推薦「多圖」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會(huì)使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會(huì)造成難顯影，留有殘膠。同時(shí)曝光影響圖案的線寬，過量曝光會(huì)使圖形線條變細(xì)，蝕刻產(chǎn)品線條變粗。所以好的辦法是依據(jù)顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設(shè)備參數(shù)和感光性能，確定適合的曝光時(shí)間。

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會(huì)使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會(huì)造成難顯影，留有殘膠。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能顯影，這必須根據(jù)實(shí)際情況，根據(jù)干膜的要求執(zhí)行。

利用稀堿溶液與光致抗蝕劑中未曝光部分的活性基團(tuán)(羧基)反應(yīng)，

曝光顯影技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉(zhuǎn)印技術(shù)，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢(shì)明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率；

曝光顯影加工是半導(dǎo)體工業(yè)制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。該加工方法主要應(yīng)用于芯片制造過程中的多個(gè)步驟中，如制造晶體管、金屬線、電容、電阻等元件。通過它可以在芯片上制造出不同的圖案，從而實(shí)現(xiàn)各種電子器件的功能。曝光顯影加工是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的一部分。曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在菲林的制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。