3分鐘前 東臺鋁材6061曝光顯影加工廠家信賴推薦「多圖」[利成感光38dbdb8]內容：曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。所以好的辦法是依據顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設備參數和感光性能，確定適合的曝光時間。

曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質量等因素。

曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能顯影，這必須根據實際情況，根據干膜的要求執行。

利用稀堿溶液與光致抗蝕劑中未曝光部分的活性基團(羧基)反應，

曝光顯影技術優勢

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉印技術，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產能優勢明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率；

曝光顯影加工是半導體工業制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。該加工方法主要應用于芯片制造過程中的多個步驟中，如制造晶體管、金屬線、電容、電阻等元件。通過它可以在芯片上制造出不同的圖案，從而實現各種電子器件的功能。曝光顯影加工是半導體工業中非常重要的一部分。曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準確性，因此在菲林的制作上，需要非常準確和清晰。操作人員要規范作業，避免圖案模糊或者移位影響產品品質。