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公司基本資料信息
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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。Parylene HT(SCS)該材料具有更低的介電常數(即透波性能好)、好的穩固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達450攝氏度,長期耐溫可達350攝氏度,并具有強的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護材料。
Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐,、 低阻滯性、低摩擦系數及生物相容性,在國際臨床運用的生物的表面涂層上,將逐步取代TiNi(鎳鈦)合金涂層而被列為*材料。如骨釘、探針、針頭、臨時手術器械、導尿管、制動器及耳蝸植入器,心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術刀等微型電子。
派瑞林涂層是化學氣相沉積法,是反應物質在氣態條件下發生空間氣相化學反應,在固態基體表面直接生成固態物質,進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術。派瑞林薄膜制備過程分為三步:單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。
紫外線照射的薄膜與未曝光的薄膜之間的故障時間之間的巨大差異為聚對二C和N的正確使用條件提供了重要的認識。聚對二D,C,N,AF4的化學結構定義了由于紫外線引起的降解接觸。聚對二N是未取代的烴分子,聚對二C每個重復單元具有一個加氯基,聚對二D每個重復單元具有兩個加氯基。相比之下,聚對二AF4用氟原子取代了化學品苯環上的氫原子,從而大大增強了其紫外線穩定性。