2分鐘前 肇慶平面曝光顯影訂制信賴推薦「多圖」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

曝光一般在曝光機內(nèi)進行，目前的曝光機依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進行紫外光照射，

3D曲面玻璃利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷的問題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點。

光刻顯影曝光系統(tǒng)用于背接觸太陽電池背面指交叉圖案的制備。包含涂膠勻膠、烘烤、單面曝光和顯影等功能單元的整套光刻顯影曝光系統(tǒng)

底片尺寸的穩(wěn)定性隨環(huán)境的溫度和貯存時間而變化。所以，底片的生產(chǎn)、貯存和使用采用恒溫的環(huán)境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸穩(wěn)定性。

除此以外，曝光機的真空系統(tǒng)和真空曝光框架材料的選擇，也影響曝光成像的質(zhì)量。

顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機與激光打印機中。

曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉(zhuǎn)移到感光底板（即PCB）上。顯影：顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個過程。通過堿液作用，將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。曝光一般在曝光機內(nèi)進行，目前的曝光機依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、菲林膠片質(zhì)量等因素。