8分鐘前 肇慶平面曝光顯影訂制信賴推薦「多圖」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：
曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。
曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過程中，會(huì)使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會(huì)造成難顯影，留有殘膠。
蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
高精度紫外平行光源通過掩膜版對(duì)涂有特定吸收波長的油墨進(jìn)行紫外光照射，
3D曲面玻璃利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷的問題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點(diǎn)。
光刻顯影曝光系統(tǒng)用于背接觸太陽電池背面指交叉圖案的制備。包含涂膠勻膠、烘烤、單面曝光和顯影等功能單元的整套光刻顯影曝光系統(tǒng)
底片尺寸的穩(wěn)定性隨環(huán)境的溫度和貯存時(shí)間而變化。所以，底片的生產(chǎn)、貯存和使用采用恒溫的環(huán)境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸穩(wěn)定性。
除此以外，曝光機(jī)的真空系統(tǒng)和真空曝光框架材料的選擇，也影響曝光成像的質(zhì)量。
顯影時(shí)，通過感光鼓和顯影輥之間的電場(chǎng)作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機(jī)與激光打印機(jī)中。